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从光子芯片到量子芯片,华为的野心不仅于此,如今华为还瞄准了最难攻克的堡垒——光刻机。

据据日前SeenPat新专利公开消息显示,华为一项新专利公开,提供了一种反射镜、光刻装置及其控制方法,能够解决相干光固定的干涉图样而无法匀光的问题。专利名称为“反射镜、光刻装置及其控制方法”,专利申请号为CN202110524685.X。

从介绍中可以看出,该专利提供了一种光刻装置,该光刻装置包括相干光源、反射镜(也可以称为去相干镜)、照明系统。

其中,反射镜可以在光刻装置中设置旋转装置,在该光刻装置中,相干光源发出的光线经旋转的反射镜的反射后,通过照明系统分割为多个子光束并投射至掩膜版上,以进行光刻。

在光刻装置中,上述照明系统作为重要组成部分,其主要作用是提供高均匀性照明(匀光)、控制曝光剂量和实现离轴照明等,以提高光刻分辨率和增大焦深。该光刻装置通过不断改变相干光形成的干涉图样,使得照明视场在曝光时间内的积累光强均匀化,从而达到匀光的目的,继而也就解决了相关技术中因相干光形成固定的干涉图样而无法匀光的问题。

从这项专利上,我们看到华为在光刻机研发层面正在投入与突破,华为可能要亲自下场做光刻机了。

问题来了, 华为为何会考虑亲自去研发光刻机技术,成功可能性多大?

华为或许比任何公司更有做光刻机的需求与紧迫感

从目前来看,华为到底是要亲自去下场做光刻机还是去尝试攻克相关技术专利,与产业链合作推进光刻机的研发进展,暂时还不明确。

在笔者看来,在被制裁的两年内,华为可能还在等待美国解禁,抱有一定的幻想,但从目前来看,华为已经放弃了幻想,终于认清了美国对华为进行全面的产业链制裁的决心是非常大的,华为不再抱有希望。

如果要生存,如果手机业务想要有更进一步的发展,自主攻克光刻机这个几乎不可能完成的项目,就是摆在华为面前所需要解决的问题。

从目前来看,国内企业和各科研单位对光刻机、EDA软件、光刻机胶等设备和材料进行了攻克,上海微电子于今年通过了28纳米光刻机的技术检测和认证,28纳米已经算的上是中端光刻机了,目前已处于量产阶段。据悉上海微电子将在明年向国内芯片制造企业交付28nm光刻机。

从目前来看,华为并没有把希望完全寄托在上海微电子光刻机项目上,而是自己也亲自下场去攻关了,对于华为来说,目前没有太多时间去等待了。上海微电子虽然28纳米节点的光刻机是预计明年交付,但具体是否能如期交付、是否能量产28nm也不能确定。

从目前来看,华为或许对上海微电子的研发进度并不满意,毕竟,对于上海微电子而言,光刻机的研发需要考虑投入产出以及利润等系列问题,而对于华为而言,是关乎生存。华为亲自下场推进,其效果与效率可能会更快。

其实很早之前,不少业内人士就在呼吁华为自己去攻克光刻机的难题。因为光刻机是华为最核心的卡脖子项目,解决自己的燃眉之急,华为比任何其他公司和机构都更有紧迫感。

很早之前就有业内人士质疑,上海微电子装备公司十年的研发投入仅仅6亿,如此少的研发投入只能说明技术研发的难度和深度都很小,那项目积累的技术就非常少。

因此,这可能是华为要亲自下场去发力光刻机技术研发的核心焦虑点。从华为自身来看,华为本身就已经拥有大量数学、物理、材料科学的各方面人才,其人才储备很大,加上华为在科研项目管理方面的经验方面,亲自下场也有它本身的优势。

尤其上海微电子是做产业集成,不是自己做双工台、光刻胶、检测仪器,它也需要产业链企业给它供货,华为的集成能力或许要强于上海微电子,能供货给上海微电子的国内企业,同样能供货给华为。